磁場(chǎng)退火高溫爐 是由升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，Labview控制軟件，電磁鐵，高精度雙性恒溫電源，分子泵組，水冷機(jī)組共同組成的一套反饋調(diào)節(jié)的加熱系統(tǒng)。

該高溫磁場(chǎng)加熱爐系統(tǒng)是由分子泵組中的機(jī)械泵（干泵）先對(duì)真空腔體（樣品腔）進(jìn)行粗抽，達(dá)到可以開啟分子泵的限真空時(shí)，在開啟分子泵進(jìn)行高真空的抽取，達(dá)到客戶所需的真空度。打開軟件，通過在軟件中輸入需要的磁場(chǎng)值和溫度值，通過閉循環(huán)反饋調(diào)節(jié)，使設(shè)備內(nèi)樣品的溫度自動(dòng)控制并穩(wěn)定在某一個(gè)溫度值，軟件可以按照用戶給定的實(shí)驗(yàn)條件完成實(shí)驗(yàn)。

磁場(chǎng)控制：用戶可以直接通過軟件設(shè)定所需要的磁場(chǎng)大小，由高精度高斯計(jì)讀取實(shí)際磁場(chǎng)值，再將實(shí)際讀出的磁場(chǎng)值反饋給高精度恒流電源，通過電源內(nèi)部軟件處理后，直接由控制高精度恒流電源的輸出電流，從而實(shí)現(xiàn)用戶所需要的磁場(chǎng)，并實(shí)時(shí)顯示在軟件上；

溫度控制：通過在軟件上人機(jī)交互界面直接設(shè)置所需要的溫度值，計(jì)算機(jī)軟件處理后指令到達(dá)高溫爐加熱控制器?？刂破魍ㄟ^溫度傳感器（熱電偶）讀出樣品區(qū)的實(shí)際溫度值，并通過其內(nèi)部設(shè)置的模糊控制PID調(diào)節(jié)輸出電流的大小，總而使溫度值穩(wěn)定在某一精度范圍內(nèi)，從而實(shí)現(xiàn)用戶所需要的不同溫度。

真空環(huán)境：通過分子泵組獲得真空環(huán)境，由高真空全量程真空計(jì)顯示并監(jiān)控，并實(shí)時(shí)的將檢測(cè)結(jié)果傳遞給計(jì)算機(jī)。

退火過程：在強(qiáng)磁場(chǎng)（或無磁）環(huán)境下對(duì)樣品進(jìn)行加熱，加熱到一定溫度（用戶需要自己設(shè)定）并保持在該溫度，再持續(xù)加一個(gè)磁場(chǎng)（可隨時(shí)變化），達(dá)到用戶的目的后，關(guān)閉磁場(chǎng)，關(guān)閉加熱環(huán)境，冷卻到室溫。

樣品環(huán)境：高溫磁場(chǎng)加熱爐可以將被測(cè)樣品同時(shí)置于強(qiáng)磁場(chǎng)、高真空、高溫環(huán)境中。同時(shí)也可以單獨(dú)或任意組合這三種實(shí)驗(yàn)環(huán)境，滿足不同樣品在不同環(huán)境下的測(cè)試要求。

適應(yīng)范圍：需在高溫、高真空、強(qiáng)磁場(chǎng)環(huán)境中加熱或去磁的各種軟磁性材料。

主要技術(shù)指標(biāo)：

※ 真空室及主要零部件材質(zhì)均為304無磁不銹鋼；

※ 采用的真空獲得系統(tǒng)為分子泵組；真空測(cè)量為數(shù)顯全量程真空計(jì)；

※ 真空度及漏率：① 真空室限真空度6′10^-5Pa(冷態(tài))；②漏率<10^-11Pa.L/s，真空度隨著溫度變化，會(huì)出現(xiàn)波動(dòng)，屬于正常情況；

※ 在室溫到900度，升溫速率優(yōu)于100K/min，高溫加熱溫度1000℃；控溫精度：±1℃；

※ 加熱時(shí)，加熱絲被封裝在石英管內(nèi)，大程度的減少由于加熱絲的揮發(fā)造成樣品表面附著物的污染；

※ 匹配磁鐵電源：雙性，穩(wěn)定度優(yōu)于50ppm/h，平滑過零無斷點(diǎn)；

※ 匹配電磁鐵：長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行穩(wěn)定度<±0.5Gs；

※ 冷卻方式：水冷。